旋轉管式爐在材料科學和地質學等研究領域有許多應用，適用于高溫下持續流動的顆粒狀或顆粒狀物料的熱處理。適合需要在空氣或惰性氣氛中處理的材料。在高溫下變粘的材料不適合。具體應用包括：礦石的氣態還原以及礦石和冶金爐渣的分析，合成：催化劑；油漆的顏...

PECVD系統具有優良的電學性能、良好的襯底附著性以及臺階覆蓋性，正由于這些優點使其在超大規模集成電路、光電器件、MEMS等領域具有廣泛的應用。適用于室溫至1200℃條件下進行Si02、SiNx薄膜的沉積，同時可實現TEOS源沉積，Sic膜...

真空熱壓爐是靶極材料、納米陶瓷材料、釹鐵硼材料等新型材料的理想設備，主要供大專院校、科研單位針對無機材料在真空（或保護氣氛）熱壓條件下進行燒結處理，以便獲得高致密度的產品。爐體部分：爐體為立式爐殼其內層為不銹鋼制成的園筒外層為碳鋼。兩層之間...

多溫區管式爐包括雙溫區、三溫區、五溫區，每個溫區可以單獨控溫，主要適用于真空或保護氣氛中，多種溫度段下材料的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解、低溫沉積工藝，碳納米管及碳納米線的制備等。主要針對實驗室在真空或者保護氣氛下對樣品的熱處理，優質的爐膛材...